多调式光罩、光罩基底、多调式光罩之制造方法、及图案转印方法

摘要

本发明系于透明基板上形成有包括遮光部、透光部、及半透光部之特定转印图案之多调式光罩。遮光部系由具有导电性之蚀刻均衡器膜、半透光膜、及遮光膜依序积层于透明基板上而成，半透光部系由蚀刻均衡器膜及半透光膜依序积层于透明基板上而成，透光部系使透明基板露出而成。