发明名称 |
孔量测图形以及孔量测方法 |
摘要 |
本发明提供了一种孔量测图形以及孔量测方法。跟本发明的孔量测图形包括:第一部分、第二部分以及第三部分;其中,所述第一部分是至少包含三行三列的重复图形的重复图形区域,所述第二部分是一个“T”型图形翻转90度之后形成的图形,所述第三部分是一个“T”型图形。其中,所述第二部分位于所述第一部分侧部,并且第三部分位于所述第一部分上部或下部。根据本发明,提供了一种改善接触孔和/或通孔层密集区域量测关键尺寸的孔量测图形和方法,其中借助在接触孔和通孔层密集图形区域设置辅助量测图形,从而改善了其关键尺寸量测情况。 |
申请公布号 |
CN102437068B |
申请公布日期 |
2014.01.08 |
申请号 |
CN201110366174.6 |
申请日期 |
2011.11.17 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
夏婷婷;毛智彪 |
分类号 |
H01L21/66(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
陆花 |
主权项 |
一种利用根据一孔量测图形进行孔量测的孔量测方法,其特征在于,所述孔量测图形包括:第一部分、第二部分以及第三部分;其中,所述第一部分是至少包含三行三列的重复图形的重复图形区域,所述第二部分是一个“T”型图形翻转90度之后形成的图形,所述第三部分是一个“T”型图形,所述第二部分与第三部分相互成90度直角,所述第一部分为待量测图形,所述第二部分以及第三部分为辅助图形;所述孔量测方法包括:通过曝光和显影将光掩模上的接触孔和通孔关键尺寸量测图形转移到光刻胶膜中;利用线宽扫描电子显微镜,通过水平和垂直方向的辅助图形确定第一量测点位置;以及执行接触孔和/或通孔关键尺寸量测。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路497号 |