发明名称 | 抗反射的聚合物结构及其制备方法 | ||
摘要 | 本发明说明了多种抗反射聚合物结构,包含这些结构的制品,以及制备这些结构的方法。 | ||
申请公布号 | CN1292879A | 申请公布日期 | 2001.04.25 |
申请号 | CN99803909.8 | 申请日期 | 1999.01.13 |
申请人 | 美国3M公司 | 发明人 | M·F·韦伯;A·J·奥德科克 |
分类号 | G02B1/11 | 主分类号 | G02B1/11 |
代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 白益华 |
主权项 | 1.一种制品,包含多层聚合物层,每层所述聚合物层的厚度不超过约1微米,这些层共同形成自立膜,选择所述聚合物层,以使当所述制品与折射率约为1.50的底材表面光耦合时,所述制品能降低所述底材在所述表面上在感兴趣的波长范围的反射率,垂直入射时反射率至少降低至原来的约1/2。 | ||
地址 | 美国明尼苏达州 |