| 发明名称 | 一种阵列基板及其制作方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，解决了现有的阵列基板制作曝光次数多、工序复杂、成本高的问题。一种阵列基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成栅金属层、栅绝缘层、有源层以及源漏金属层，其中，所述在衬底基板上形成栅绝缘层、有源层和源漏金属层包括：在衬底基板上形成栅绝缘薄膜、有源层薄膜以及源漏金属薄膜；利用一次构图工艺形成的所述栅绝缘层、有源层以及源漏金属层。 | ||
| 申请公布号 | CN103500730A | 申请公布日期 | 2014.01.08 |
| 申请号 | CN201310486484.0 | 申请日期 | 2013.10.17 |
| 申请人 | 北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 郭建 |
| 分类号 | H01L21/77(2006.01)I;H01L27/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种阵列基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成栅金属层、栅绝缘层、有源层以及源漏金属层，其特征在于，所述在衬底基板上形成栅绝缘层、有源层和源漏金属层包括：在衬底基板上形成栅绝缘薄膜、有源层薄膜以及源漏金属薄膜；利用一次构图工艺形成所述栅绝缘层、有源层以及源漏金属层。 | ||
| 地址 | 100176 北京市大兴区经济技术开发区西环中路8号 | ||