发明名称 一种用于真空靶材喷涂的真空喷涂罐结构
摘要 本实用新型公开一种用于真空靶材喷涂的真空喷涂罐结构,该真空喷涂罐为内部呈真空状态的双层式罐体及罐体两端的密封端盖,该双层式罐体包括内层罐体及外层罐体,所述外层罐体包裹与内层罐体外侧,并在内层罐体及外层罐体之间形成水冷空腔,所述水冷空腔内部设置有罐体水冷结构。本实用新型采用双层结构罐体,且双层中增加水冷效果,实现在保持真空状态下还同时实现快速降温冷却的目的,从而提高生产效率,降低成本;而在真空状态下生产的靶材,具有高致密度、高纯度、低氧、氮含量、高结合强度等优点。
申请公布号 CN203373415U 申请公布日期 2014.01.01
申请号 CN201320418469.8 申请日期 2013.07.15
申请人 厦门映日新材料科技有限公司 发明人 罗永春
分类号 C23C4/12(2006.01)I 主分类号 C23C4/12(2006.01)I
代理机构 厦门市诚得知识产权代理事务所(普通合伙) 35209 代理人 李伊飏
主权项 一种用于真空靶材喷涂的真空喷涂罐结构,其特征在于:该真空喷涂罐为内部呈真空状态的双层式罐体及罐体两端的密封端盖,该双层式罐体包括内层罐体及外层罐体,所述外层罐体包裹与内层罐体外侧,并在内层罐体及外层罐体之间形成水冷空腔,所述水冷空腔内部设置有罐体水冷结构。
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