发明名称 | 双闸极、非挥发性记忆胞及其阵列、以及其制造方法与操作方法 | ||
摘要 | 一种记忆胞及包括多个此等记忆胞之阵列,以及此等记忆胞之制造方法及此等记忆胞之操作方法,其中记忆胞包括半导体基底,其具有被通道区域分离之源极区与汲极区;第一闸极,其设置于电荷捕捉结构上方并邻近源极区;以及第二闸极,其设置于电荷捕捉结构上方并邻近汲极区,其中第一闸极与第二闸极被第一奈米空间分离。 | ||
申请公布号 | TW200733307 | 申请公布日期 | 2007.09.01 |
申请号 | TW095106054 | 申请日期 | 2006.02.23 |
申请人 | 旺宏电子股份有限公司 | 发明人 | 何家骅;吕函庭;施彦豪;赖二琨;谢光宇 |
分类号 | H01L21/8247(2006.01) | 主分类号 | H01L21/8247(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行路16号 |