浸没曝光设备以及浸没曝光方法

摘要

本发明公开浸没曝光设备和浸没曝光方法，用于在更换平板印刷机(10)中工件(208)期间，将浸没流体(212)保持在邻接投射透镜(16)的间隙。该设备和方法包括光学组件(16)和台组件(202)，前者作成为可以将图像投射到工件(208)，后者包括工件座(204)，该工件座作成为可以支承邻接光学组件(16)的工件(208)。配置外围系统(26)，以便向台组件(202)光学组件(16)和工件(208)之间形成的间隙输送浸没流体(212)，从该间隙中除去该浸没流体(212)。在完成工件(208)曝光后，更换系统(216)取下工件(208)，用第二工件替换该工件。配置浸没流体约束系统(214)，在取下第一工件(208)，用第二工件代替时，可以将浸没流体(212)保持在该间隙中。

主权项

一种以光束曝光晶片的浸没曝光设备，包括：光学组件，所述光束透过所述光学组件照射到所述晶片上；晶片座，所述晶片座支撑所述晶片并且可相对所述光学组件移动；以及垫板，所述垫板可独立地相对所述晶片座移动，并可移离所述光学组件下方，其中远离所述光学组件下方地定位的所述垫板向着定位在所述光学组件下方的所述晶片座移动，以便所述垫板邻接所述晶片座地定位，邻接的晶片座和垫板在从第一状态转变到第二状态的期间一起移动，所述第一状态是指浸没流体维持在所述光学组件和所述晶片座之间的空间中，所述第二状态是指所述浸没流体维持在所述光学组件和所述垫板之间的空间中，所述光学组件在转变期间保持与所述浸没流体接触。