发明名称 EXPOSURE SYSTEM AND DEVICE PRODUCTION METHOD
摘要 <p>이 노광 장치 (EX) 는, 투영 광학계 (PL) 와 기판 (P) 사이를 액체 (30) 로 채운 상태에서, 투영 광학계 (PL) 와 액체 (30) 를 통해 패턴의 이미지를 기판 (P) 상에 투영하고, 기판 (P) 을 노광시킨다. 이 노광 장치 (EX) 는 액체 (30) 의 기화를 억제하는 기화 억제 유닛 (20) 을 구비하고 있다.</p>
申请公布号 KR101345474(B1) 申请公布日期 2013.12.27
申请号 KR20127009949 申请日期 2004.03.23
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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