发明名称 织机轴位偏移监测系统
摘要 本实用新型提供一种织机轴位偏移监测系统,包括回转体和枢置所述回转体的基座,所述回转体的两端分别设置有定位所述回转体两端中心的定位构件,所述定位构件包括所述回转体两端中心的定位针,所述定位针设置在所述回转体的轴线上,所述定位构件上设置有确定所述定位构件是否发生偏移的监测构件,所述监测构件包括穿过相应所述回转体轴线的反射板和承载并调整所述反射板位置的转动基台,位于同一侧的所述回转体一端设置有光学发射头和光学接收头,本实用新型利用回转体振动使反射板振动影响光线的传输,通过分析所述光学接收头接收光线的强弱很好的监测回转体的工作状态。
申请公布号 CN203365062U 申请公布日期 2013.12.25
申请号 CN201320336071.X 申请日期 2013.06.13
申请人 苏州市丹纺纺织研发有限公司 发明人 何晓东
分类号 G01M1/16(2006.01)I 主分类号 G01M1/16(2006.01)I
代理机构 常州市维益专利事务所 32211 代理人 王凌霄
主权项 一种织机轴位偏移监测系统,包括回转体(100)和枢置所述回转体(100)的基座(400),其特征在于:所述回转体(100)的两端分别设置有定位所述回转体(100)两端中心的定位构件,所述定位构件包括所述回转体(100)两端中心的定位针(200),所述定位针(200)设置在所述回转体(100)的轴线上,所述定位构件上设置有确定所述定位构件是否发生偏移的监测构件,所述监测构件包括穿过相应所述回转体(100)轴线的反射板(110)和承载并调整所述反射板(110)位置的转动基台(100),所述转动基台(100)承载所述反射板(110)的平面设置在所述定位针(200)的轴线上,所述转动基台(100)与所述定位针(200)转动连接,所述转动基台(100)与所述基座(400)间设置有锁定所述转动基台(100)角度的弹性构件(300),位于同一侧的所述回转体(100)一端设置有光学发射头(500)和光学接收头,所述光学发射头(500)发射的光线经各所述反射板(110)反射后进入所述光学接收头。
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