发明名称 | 用于多重图案化技术的单元布局 | ||
摘要 | 本发明提供了一种用于多重图案化技术的单元布局的系统和方法。把将要进行图案化的区域划分为对应于各个掩模的交替区域。在布局工艺期间,位于沿着单元的边界的位置上的区域被限制为具有与边界区域相关联的掩模中的图案。当布置时,将单个单元布置为使得邻接的单元交替了分配到各个掩模的区域。以这种方式,当设计每个单个单元,使得一个单元的掩模图案太靠近邻近单元的掩模图案时,设计人员会得知。 | ||
申请公布号 | CN102542099B | 申请公布日期 | 2013.12.25 |
申请号 | CN201110419100.4 | 申请日期 | 2011.12.14 |
申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 陈皇宇;侯元德;谢艮轩;刘如淦;鲁立忠 |
分类号 | G06F17/50(2006.01)I | 主分类号 | G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 | 北京德恒律师事务所 11306 | 代理人 | 陆鑫;房岭梅 |
主权项 | 一种形成集成电路的单元布局的方法,包括:将布置区域中的多个区域标记为第一区域和第二区域,所述布置区域具有多个单元,其中,每个单元包括一个或多个所述第一区域和一个或多个所述第二区域;分析单元的子图案的类型,通过第一掩模和第二掩模限定所述子图案,其中,所述子图案包括所述第一掩模限定出的图案和所述第二掩模限定出的图案;将所述第一区域与所述第一掩模相关联,将所述第二区域与所述第二掩模相关联;以及判断所述单元的边界区域是否包含通过与所述边界区域不相关联的掩模限定出的图案,相邻单元的所述边界区域是相交替的。 | ||
地址 | 中国台湾新竹 |