非晶矽膜形成方法及非晶矽膜形成装置

摘要

非晶矽膜形成方法包含：藉由加热基底和流入胺基矽烷基气体至该加热之基底上，以在基底的表面上形成晶种层；及藉由加热基底、供应不含胺基之矽烷基气体至位在该加热基底的表面上之晶种层、并热分解该不含胺基之矽烷基气体，以于晶种层上形成非晶矽膜。