等离子体增强清洗装置、系统及清洗晶圆的方法

摘要

本发明公开了一种等离子体增强清洗装置、系统及清洗晶圆的方法，采用具有小于晶圆直径的等离子体增强清洗装置对晶圆进行清洗，尤其是对氟残留进行清洗，有利于热量的迅速散发，且小面积清洗能够保证清洗过的区域杂质去除干净，不需要进行湿法清洗，外围管道能够及时的将清洗的微粒和氟残留排出，大大的提高了清洗的质量，降低了边缘效应的影响，从而避免了清洗时对低K介质层的破坏，极大的降低了清洗时的风险。

主权项

一种等离子体增强清洗装置，其特征在于，包括：一等离子体管道，用以传输等离子体，所述等离子体管道直径小于待处理晶圆直径；一外围管道，用以传输清洗后物质，所述外围管道包围所述等离子体管道。