一种氧化钛光催化薄膜的激光改性处理工艺

摘要

本发明公开了一种氧化钛光催化薄膜的激光改性处理工艺，系统研究激光改性处理的工艺参数对于薄膜性能的影响，以期获得最佳的激光改性工艺参数以得到催化性能优异的氧化钛光催化薄膜。结果表明激光改性的工艺处理参数，对薄膜的光催化性能具有重要影响，经过合理优化，制得了最佳性能的氧化钛光催化薄膜。

主权项

一种氧化钛光催化薄膜的激光改性处理工艺，其特征在于包括以下步骤：（1）采用陶瓷作为基板，在其表面制备氧化钛光催化薄膜；（2）对得到的陶瓷基板上的氧化钛光催化薄膜进行进一步的激光改性处理，所述激光改性的条件是：激光垂直辐照，激光波长为800nm，脉冲宽度160‑180fs，频率1kHz，光斑直径300μm，扫描速度为1.5‑2mm/s，搭接率为50‑60%，能量密度为50‑60mJ/cm2；将激光改性处理后的薄膜置于退火炉中，以5‑8℃/min的升温速率升温至500‑550℃，退火1‑1.5h，得到经改性的氧化钛催化剂薄膜产品。