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<p>Eine Beleuchtungsoptik (32) für die Projektionslithographie dient zur Ausleuchtung eines Objektfeldes (5), in dem ein abzubildendes Objekt anordenbar ist, mit Beleuchtungslicht (14). Die Beleuchtungsoptik hat einen Kollektor zum Erfassen der Emission einer Lichtquelle für das Beleuchtungslicht (14). Der Kollektor ist so angeordnet, dass er das Beleuchtungslicht (14) von der Lichtquelle in einen Zwischenfokus (16) überführt. Die Beleuchtungsoptik (32) hat weiterhin einen Feldfacettenspiegel (20) und einen Pupillenfacettenspiegel (21), jeweils mit einer Mehrzahl von Facetten (22, 23). Die Feldfacetten (22) werden durch eine Übertragungsoptik (21) in das Objektfeld (5) abgebildet. Die Beleuchtungsoptik (32) hat zudem ein Einzelspiegelarray (17) mit individuell angesteuert verkippbaren Einzelspiegeln, das in einem Beleuchtungsstrahlengang (26) vor dem Feldfacettenspiegel (20) und nach dem Zwischenfokus (16) angeordnet ist. Der Zwischenfokus (16) wird über Ausleuchtungskanäle, die jeweils durch mindestens einen der Einzelspiegel und mindestens eine der Feldfacetten (22) gebildet sind und die einen Teilstrahl des Beleuchtungslichts (14) führen, in einen Ortsbereich (25) abgebildet, in dem sich der Pupillenfacettenspiegel (21) befindet. Es resultiert eine Beleuchtung des abzubildenden Objekts, die flexibel gestaltbar und an Vorgabewerte gut anpassbar ist.</p> |
