发明名称 隅角立方体辐射控制
摘要 本发明描述一种用于在直接辐射加热系统中利用隅角立方体反射器技术进行辐射控制的系统和方法。所述系统和方法在多种类型的直接辐射加热系统中具有应用且可适用于窄频带或宽频带受引导辐射加热系统两者。实施方案的目的和结果是通过使光子改向返回到正用辐射能量加热或处理的目标物品而改进总系统效率。
申请公布号 CN103430276A 申请公布日期 2013.12.04
申请号 CN201180029110.5 申请日期 2011.05.06
申请人 派拉斯科IP有限责任公司 发明人 唐·W·科克伦
分类号 H01J40/02(2006.01)I 主分类号 H01J40/02(2006.01)I
代理机构 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人 吴晓辉
主权项 一种用于辐射处理或加工目标物品的系统,所述系统包括:辐射源,其操作以产生辐射,所述辐射源经配置以朝向目标物品引导辐射,所述目标物品吸收一些所述受引导辐射;及辐射区,所述目标将被定位在其中以进行辐射,所述辐射区至少部分由贴近的隅角立方体反射器材料界定,所述隅角立方体反射器材料包括隅角立方体反射器阵列且操作以将辐射反射回所述目标物品,辐射已是从所述目标物品反射、从所述目标物品反向散射或穿过所述目标物品中的至少一者。
地址 美国俄亥俄州