发明名称 | 诱导拟南芥在黑暗中继续发育的方法 | ||
摘要 | 本发明涉及一种诱导拟南芥在黑暗中继续发育的方法。在拟南芥培养基中添加浓度为0.1~10mM的过氧化氢,进行暗培养,黑暗培养温度为22~24℃,湿度70%~90%。拟南芥在黑暗中发芽,继续培养1~2个月后,诱导发育长出两片以上真叶。本发明中所使用的方法简单、有效,对光照不足地区的作物栽培具有重要的启示作用。 | ||
申请公布号 | CN103416306A | 申请公布日期 | 2013.12.04 |
申请号 | CN201310317997.9 | 申请日期 | 2013.07.25 |
申请人 | 中国热带农业科学院橡胶研究所 | 发明人 | 程汉;高静;黄华孙;安泽伟;胡彦师 |
分类号 | A01H4/00(2006.01)I | 主分类号 | A01H4/00(2006.01)I |
代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 黄慧德 |
主权项 | 诱导拟南芥在黑暗中继续发育的方法,其特征在于在拟南芥培养基中添加摩尔浓度为0.1~10mM的过氧化氢,进行暗培养,拟南芥在黑暗中发芽,继续发育长出两片以上真叶。 | ||
地址 | 571737 海南省儋州市宝岛新村 |