| 摘要 |
本发明揭示一种微影装置，该微影装置包含：;一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化元件，该图案化元件能够在该辐射光束之横截面中向该辐射光束赋予一图案以形成一经图案化辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；及一投影系统，其经组态以将该经图案化辐射光束投影至该基板之一目标部分上。;该微影装置进一步包含一投影转移量测配置，该投影转移量测配置用以量测该投影系统之一光学投影转移资讯。该投影转移量测配置包含：一光学元件，其用以在一扫描移动期间将一量测光束引导至该投影系统中；一侦测器，其用以在该扫描移动期间侦测已传递通过该投影系统之该量测光束；及一量测处理元件，其用以自该经侦测量测光束判定该光学投影转移资讯。该光学元件及该侦测器配置于该投影系统之一上游末端处。 |
