用于使在低温基底上的薄膜高速反应的方法和装置

摘要

公开了一种用于使低温基底上的薄膜在反应气氛内反应的方法。所述薄膜包含可还原的金属氧化物，并且所述反应气氛包含诸如氢或甲烷的还原气体。所述低温基底可以为聚合物、塑料或纸。使用来自高强度频闪系统的多个光脉冲将所述金属氧化物还原成金属并且如果适用则烧结所述金属。

主权项

一种用于使低温基底上的薄膜反应的方法，所述方法包括：提供气态气氛；通过传送带将安装在低温基底上的薄膜层移动通过所述气态气氛；以及将所述薄膜层暴露到多个电磁发射，同时使所述薄膜层在所述气态气氛内相对于所述电磁发射的源移动，以使所述薄膜层与所述气态气氛化学反应，其中所述电磁发射的脉冲速率f与所述传送带的速度通过下式同步： f = 0.2 * S * O W 其中S=毛网速度O=重叠因子W=固化头宽度。