发明名称 半导体组装结构与其形成方法
摘要 本发明提供一种半导体组装结构与其形成方法。方法包括清洁一包含铜的连接结构,且此连接结构形成于一基材之上;施加一冷锡到连接结构;施加一热锡到连接结构;以及旋转润洗(spin rising)与干燥(drying)连接结构。本发明可以减少位于柱状结构或凸块的铜-锡界面中的孔洞数目与尺寸。
申请公布号 CN102074487B 申请公布日期 2013.11.06
申请号 CN201010552492.7 申请日期 2010.11.17
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 黄见翎;萧义理;刘重希
分类号 H01L21/60(2006.01)I;H01L23/488(2006.01)I;H01L25/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/60(2006.01)I
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人 姜燕;陈晨
主权项 一种半导体组装结构的形成方法,包括以下步骤:清洁形成于一基材上的一连接结构,其中该连接结构包括铜;施加一冷锡到该连接结构,其中该冷锡的温度为20℃‑25℃;施加一热锡到该连接结构,其中该热锡的温度为40℃‑75℃;以及旋转润洗与干燥该连接结构。
地址 中国台湾新竹市