| 发明名称 | 离子束均匀性的检测方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种离子束均匀性的检测方法，包括下列步骤：获取离子注入机台检测离子束的取点位置在晶圆上的对应位置；采用所述离子注入机台对晶圆进行离子注入；测量所述对应位置的电阻值；根据所述电阻值判断离子束均匀性是否达标。本发明通过检测与离子注入机台检测离子束的取点位置在晶圆上对应位置的测量点的电阻值，以判断注入晶圆的离子的均匀性，能够准确反映注入晶圆内的离子均匀性的变化，以及离子注入制程的过程中离子均匀性的变化。 | ||
| 申请公布号 | CN103367187A | 申请公布日期 | 2013.10.23 |
| 申请号 | CN201210087739.1 | 申请日期 | 2012.03.28 |
| 申请人 | 无锡华润上华科技有限公司 | 发明人 | 阳厚国 |
| 分类号 | H01L21/66(2006.01)I;G01T1/29(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/66(2006.01)I |
| 代理机构 | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人 | 邓云鹏 |
| 主权项 | 一种离子束均匀性的检测方法，包括下列步骤：获取离子注入机台检测离子束的取点位置在晶圆上的对应位置；采用所述离子注入机台对晶圆进行离子注入；测量所述对应位置的电阻值；根据所述电阻值判断离子束均匀性是否达标。 | ||
| 地址 | 214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 | ||