首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 A HIGH POWER PULSED MAGNETRON SPUTTERING METHOD AND A MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS
摘要
申请公布号 HK1180532(A2) 申请公布日期 2013.10.18
申请号 HK20130101003 申请日期 2013.01.23
申请人 HONG KONG PRODUCTIVITY COUNCIL 发明人 LO, WAI YIN;TSE, KOON YIU;ZHANG, ZHONGXIANG;YICK, MAN LUNG;LAU, YIU HUNG
分类号 C23C 主分类号 C23C
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com