发明名称 具有抗反射特性的底层组成物
摘要 本发明提供一用于一微影方法之具有良好抗反射性之底层组成物。此组成物具有优异之光学特性、机械特性,及蚀刻选择性,且可使用一旋转涂敷方法涂敷。有利地,此组成物可应用于短波长之微影方法且显示最小之剩余酸。
申请公布号 TWI411628 申请公布日期 2013.10.11
申请号 TW098140969 申请日期 2009.12.01
申请人 第一毛织股份有限公司 南韩 发明人 尹敬皓;李镇国;田桓承;金旼秀;宋知胤
分类号 C08G69/26;C08G69/32;G03F7/11;H01L21/027 主分类号 C08G69/26
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项
地址 南韩