发明名称 |
具有抗反射特性的底层组成物 |
摘要 |
本发明提供一用于一微影方法之具有良好抗反射性之底层组成物。此组成物具有优异之光学特性、机械特性,及蚀刻选择性,且可使用一旋转涂敷方法涂敷。有利地,此组成物可应用于短波长之微影方法且显示最小之剩余酸。 |
申请公布号 |
TWI411628 |
申请公布日期 |
2013.10.11 |
申请号 |
TW098140969 |
申请日期 |
2009.12.01 |
申请人 |
第一毛织股份有限公司 南韩 |
发明人 |
尹敬皓;李镇国;田桓承;金旼秀;宋知胤 |
分类号 |
C08G69/26;C08G69/32;G03F7/11;H01L21/027 |
主分类号 |
C08G69/26 |
代理机构 |
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代理人 |
恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼 |
主权项 |
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地址 |
南韩 |