Ätzresistente Beschichtung auf Sensor-Wafern für in situ-Messungen

摘要

Ein Sensor-Wafer kann zu in situ-Messungen von Parametern während eines Ätzprozesses konfiguriert werden. Der Sensor-Wafer kann ein Substrat, eine Abdeckung und eine oder mehrere zwischen dem Substrat und der Abdeckung angeordnete Komponenten umfassen. Eine ätzresistente Beschichtung wird auf einer oder mehreren Oberflächen der Abdeckung und/oder des Substrats ausgebildet. Die Beschichtung ist so ausgestaltet, dass sie Ätzprozessen, die die Abdeckung und/oder das Substrat ätzen, für einen längeren Zeitraum als Standard-Dünnfilm-Materialien gleicher oder größerer Dicke widersteht.