| 发明名称 | 一种硅片清洗液、制备方法、用途和硅片清洗方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种硅片清洗液、制备方法、用途及使用该清洗液的硅片清洗方法，所述清洗液包括含氟表面活性剂、聚氧丙烯聚氧乙烯聚醚、无机碱、络合剂、纤维素衍生物和纯水，其对硅片具有优异的清洗洁净能力，能够彻底除去污染物，提高电子元件的洁净度；此外，所述清洗液具有制备简单、成本低廉、环境友好等诸多优点，具有广阔的研究价值和工业应用前景。 | ||
| 申请公布号 | CN103333748A | 申请公布日期 | 2013.10.02 |
| 申请号 | CN201310300228.8 | 申请日期 | 2013.07.17 |
| 申请人 | 常熟奥首光电材料有限公司 | 发明人 | 侯军;李波;熊展瑜 |
| 分类号 | C11D1/825(2006.01)I;C11D3/37(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | C11D1/825(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京世誉鑫诚专利代理事务所(普通合伙) 11368 | 代理人 | 郭官厚 |
| 主权项 | 1.一种硅片清洗液，所述清洗液包括下述重量份的各种组分：<img file="FDA00003525619100011.GIF" wi="1035" he="496" /> | ||
| 地址 | 215513 江苏省苏州市常熟经济技术开发区研究院路9号 | ||