发明名称 |
一种结型场效应晶体管 |
摘要 |
一种结型场效应晶体管,包括:衬底;具有掺杂梯度的N掺杂区域,包括内部掺杂区域和外部掺杂区域,其中内部掺杂区域的掺杂浓度高于所述外部掺杂区域的掺杂浓度;P型埋层,分布于所述衬底并毗邻外部掺杂区域;以及电阻,耦接至内部掺杂区域和外部掺杂区域。该结型场效应晶体管,还包括:漏极、源极和栅极;耦接至内部掺杂区域并提供所述漏极的漏极欧姆接触;耦接至外部掺杂区域并提供所述源极的源极欧姆接触;耦接至所述衬底并提供所述栅极的栅极欧姆接触。该结型场效应晶体管的漏极可承受几百伏的电压,产生不超过几十伏的源极电压供给低压电路,广泛应用于各种电子电路系统。 |
申请公布号 |
CN102034875B |
申请公布日期 |
2013.09.25 |
申请号 |
CN201010251138.0 |
申请日期 |
2010.08.12 |
申请人 |
成都芯源系统有限公司 |
发明人 |
邢正人;加内特·E·马蒂;奥格杰·米历克 |
分类号 |
H01L29/808(2006.01)I;H01L29/41(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/808(2006.01)I |
代理机构 |
成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 |
代理人 |
徐宏;詹永斌 |
主权项 |
一种耗尽型结型场效应晶体管,包括:衬底;P型埋层,所述P型埋层毗邻所述衬底;N型掺杂区域,所述N型掺杂区域毗邻所述P型埋层和所述衬底,所述N型掺杂区域包括:第一N型掺杂区域,所述第一N型掺杂区域具有第一掺杂浓度;第二N型掺杂区域,所述第二N型掺杂区域毗邻所述P型埋层并具有低于所述第一掺杂浓度的第二掺杂浓度;以及漏极、源极和栅极;漏极欧姆接触,所述漏极欧姆接触耦接至所述第一N型掺杂区域以提供所述漏极;源极欧姆接触,所述源极欧姆接触耦接至所述第二N型掺杂区域以提供所述源极;电阻,所述电阻耦接至所述第一N型掺杂区域和所述第二N型掺杂区域。 |
地址 |
611731 四川省成都市高新西区出口加工区(西区)科新路8号 |