光罩之制造方法、描绘装置、光罩之检查方法及光罩之检查装置

摘要

本发明提供一种光罩之制造方法，其可在LSI或TFT-LCD等制造中，更高精度地制造TFT等电子装置之图案，为此，以高度测定机构12测定配置于描绘机之台座10上的情形之空白光罩13的表面形状之变形，藉由描绘资料作成机构15，针对其表面形状之变形要因中当光罩被使用在曝光装置中则消失之变形要因所引起的描绘偏差，修正设计描绘资料，而得到特定的描绘资料。