电子产品金属表面PVD薄膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种电子产品金属表面PVD薄膜及其制备方法，包括金属基材，金属基材的表面沉积有多层金属或金属化合物薄膜，薄膜的厚度为0.1-3μm。选取待加工产品作为基材，并进行预处理；利用磁控溅射镀膜机对预处理后的基材进行镀膜，首先在120-200℃温度下对基材进行烘烤；然后在7×10-3Pa以上的真空状态下对基材进行离子清洗，清洗时间设定为5min-10min，离子清洗时的真空度降至7×10-1Pa左右；离子清洗完毕后，在6.5×10-3Pa以上的真空状态下对基材进行镀膜，镀膜时的真空度降至2.3×10-1Pa左右。可以在金属表面镀制各种颜色，例如金黄色系列、黑色系列、银色、咖啡色、锖色、蓝色系列、紫色系列等，膜层牢固，颜色多样，可以进行批量生产。

主权项

一种电子产品金属表面PVD薄膜及其制备方法，其特征在于，包括金属基材，所述金属基材的表面沉积有多层金属或金属化合物薄膜，所述薄膜的厚度为0.1‑3μm。