发明名称 |
离子发生器的清洁设备 |
摘要 |
本实用新型涉及显示技术领域,特别涉及一种离子发生器的清洁设备;包括基座、设置在该基座上的对位升降装置,以及设置在所述对位升降装置上的刷头装置;所述对位升降装置用于带动所述刷头装置对所述离子发生器进行清洁。本实用新型能够实现对离子发生器的尖端放射部位进行自动地清洁,其可采用对位升降装置的设计,可将刷头装置伸至离子发生器的负离子尖端放射头内,并与其内的尖端部对接,以对其进行精准的对位清刷,解决了现在因人工对负离子尖端放射头进行灰尘清理而造成的清理繁琐、清理不彻底和尖端部放电而对人身造成损害等问题;省时省力,提高了工作效率,提高了除尘质量。 |
申请公布号 |
CN203170618U |
申请公布日期 |
2013.09.04 |
申请号 |
CN201320198528.5 |
申请日期 |
2013.04.18 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
发明人 |
马良;文斌 |
分类号 |
B08B1/04(2006.01)I;B08B5/04(2006.01)I |
主分类号 |
B08B1/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
韩国胜 |
主权项 |
一种离子发生器的清洁设备,其特征在于:包括基座、设置在该基座上的对位升降装置,以及设置在所述对位升降装置上的刷头装置;所述对位升降装置用于带动所述刷头装置对所述离子发生器进行清洁。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |