| 发明名称 | 原子层沉积装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供原子层沉积装置。其具有光特性测定装置（41）和ALD成膜室。光特性测定装置（41）具有电源（42）、探头（43）、测定装置（44）、承载台（45）和控制部（48）。探头（43）为接受来自发光装置（10）的光的受光体。测定装置（44）测定探头（43）接受的光的同时，输出作为测定结果的色度。控制部（48）控制光特性测定装置（41）的动作整体。 | ||
| 申请公布号 | CN203159709U | 申请公布日期 | 2013.08.28 |
| 申请号 | CN201320122884.9 | 申请日期 | 2013.03.18 |
| 申请人 | 株式会社昭和真空 | 发明人 | 吉田武史;石塚勇史 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 | 代理人 | 宋菲;刘云贵 |
| 主权项 | 原子层沉积装置，其特征在于，具有：搭载发光装置的承载台，测定所述发光装置的色度的光特性测定装置，具备排气装置的反应容器，以及向所述反应容器的内部供给原料气体的第1给气部。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||