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发明名称
自基材移除物质的方法
摘要
本发明系关于一种自一基材移除物质(较佳为光阻剂)之方法,其包含将包含硫酸及/或其乾燥物质及前驱物且具有不高于5:1之水/硫酸莫耳比的液体硫酸组合物以可有效大体上均匀涂布一经物质涂布之基材之量施配于该经物质涂布的基材上。该基材较佳在施配该液体硫酸组合物之前、期间或之后经加热至至少约90℃之温度。当基材处于至少约90℃之温度之后,将液体硫酸组合物暴露于水蒸气中,水蒸气之量可有效增加液体硫酸组合物之温度至高于在暴露于水蒸气中之前液体硫酸组合物之温度。随后较佳冲洗基材以移除该物质。
申请公布号
TWI406110
申请公布日期
2013.08.21
申请号
TW095143445
申请日期
2006.11.23
申请人
艾福斯埃国际公司 美国
发明人
柯特K 克里斯汀森;罗纳德J 汉尼斯塔;派西亚A 鲁瑟;汤玛士J 瓦格纳
分类号
G03F7/42
主分类号
G03F7/42
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
美国
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