| 发明名称 | 强磁性材料溅射靶 | ||
| 摘要 | 一种强磁性材料溅射靶，其为包含Cr为20摩尔%以下、Ru为0.5摩尔%以上且30摩尔%以下、其余为Co的组成的金属的溅射靶，其特征在于，该靶的组织具有金属基质（A）和在所述（A）中的、含有35摩尔%以上Ru的Co-Ru合金相（B）。本发明得到提高漏磁通、利用磁控溅射装置可以稳定放电的强磁性材料溅射靶。 | ||
| 申请公布号 | CN103261469A | 申请公布日期 | 2013.08.21 |
| 申请号 | CN201180060326.8 | 申请日期 | 2011.12.15 |
| 申请人 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 发明人 | 荒川笃俊;池田祐希 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;G11B5/851(2006.01)I;H01F10/16(2006.01)I;H01F41/18(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 王海川;穆德骏 |
| 主权项 | 一种强磁性材料溅射靶，其为包含Cr为20摩尔%以下、Ru为0.5摩尔%以上且30摩尔%以下、其余为Co的组成的金属的溅射靶，其特征在于，该靶的组织具有金属基质（A）和在所述（A）中的、含有35摩尔%以上Ru的Co‑Ru合金相（B）。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||