| 发明名称 | 一种COA阵列基板的制备方法、阵列基板及显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种COA阵列基板的制备方法、阵列基板及显示装置，属于液晶显示技术领域，可以解决现有的阵列基板的制备方法复杂、成本较高的问题。本发明的阵列基板的制备方法，包括以下步骤：在TFT基底上的保护层上涂光刻胶层，所述光刻胶层同时作为平坦化层，其中TFT基底包括基底和薄膜晶体管；通过光刻工艺在光刻胶层中形成彩膜容纳孔；在彩膜容纳孔中制作彩色滤光层。本发明的阵列基板，包括位于保护层上的光刻胶层，所述光刻胶层同时作为平坦化层，且其中形成有彩膜容纳孔，彩膜容纳孔中形成有彩色滤光层。本发明的显示装置包括上述阵列基板。 | ||
| 申请公布号 | CN103258793A | 申请公布日期 | 2013.08.21 |
| 申请号 | CN201310108090.1 | 申请日期 | 2013.03.29 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 齐永莲;舒适;惠官宝 |
| 分类号 | H01L21/77(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I;G02F1/136(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 罗建民;陈源 |
| 主权项 | 一种COA阵列基板的制备方法，包括TFT基底和设置在TFT基底上的彩色滤光层，其特征在于，包括如下步骤：在TFT基底上的保护层上涂光刻胶层，所述光刻胶层同时作为平坦化层，其中TFT基底包括基底和薄膜晶体管；通过光刻工艺在光刻胶层中形成彩膜容纳孔；在彩膜容纳孔中制作彩色滤光层。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||