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Procedimiento de formación de una película fina sobre la parte superior de un sustrato, que comprende las etapasde - aplicar sobre la superficie del sustrato una composición obtenida convirtiendo una composición de precursorde óxido metálico complejo en un producto intermedio, que está disuelto en una fase líquida y que puedepolimerizarse; - formar una capa fina sobre la superficie; - eliminar el disolvente de la solución; y - polimerizar el producto intermedio dando una película reticulada, procesándose el producto intermedio a partir de la fase líquida para producir una película que tiene un espesor en elintervalo de 1 nm a 1000 nm con una única ejecución de la deposición, metálico del grupo de halogenuros metálicos que tienen la fórmula I MeXm, I en la que Me representa germanio, titanio, estaño, antimonio, tántalo, hafnio, circonio o silicio, X representa unhalogenuro y m representa la valencia del metal, y alcóxidos metálicos que tienen la fórmula II MeOR1 en la que R1 representa un grupo alquilo alifático o alicíclico lineal o ramificado que opcionalmente está sustituidocon 1 a 3 sustituyentes seleccionados del grupo que consiste en grupos hidróxido, carboxi, anhídrido, oxo, nitro yamido, y Me y m tienen el mismo significado que anteriormente, y en el que existen dos tipos diferentes de moléculas presentes en relaciones molares de aproximadamente 1:10 a10:1 para formar una mezcla de halogenuros metálicos y alcóxidos metálicos. |
