离子注入机及其内部结构及在注入机中形成涂层的方法

摘要

一种离子注入机，包括处理室和涂层。处理室容纳基板，并且提供用于在基板上进行离子注入处理的空间。涂层设在处理室的内壁上以减小基板的污染，并且包括与基板相同的材料。

主权项

一种离子注入机，包括处理室，提供用于容纳基板以及在所述基板上进行离子注入处理的空间；及涂层，其设在所述处理室中的内壁或内部部件的表面上以防止所述基板的污染，并且包括与设在所述处理室中的所述基板相同的材料，所述涂层包括硅；其中所述涂层的厚度为100～1000μm并且所述涂层的平均粗糙度为4～8μm，所述涂层的孔隙率为2～10％。