| 摘要 |
1. Способ регулирования уровня (9) расплава кристаллизатора (1) непрерывного литья, при этомподвод жидкого металла (3) в кристаллизатор (1) непрерывного литья регулируют с помощью закрывающего устройства (4), и частично затвердевшую металлическую заготовку (7) вытягивают из кристаллизатора (1) непрерывного литья с помощью вытягивающего устройства (8),измеренное фактическое значение (hG) уровня (9) расплава подают в регулятор (18) уровня расплава, который на основании фактического значения (hG) и соответствующего заданного значения (hG*) определяет заданное положение (р*) для закрывающего устройства (4),измеренное фактическое значение (hG) уровня (9) расплава подают в компенсатор (20) помеховых величин,в компенсатор (20) помеховых величин подают дополнительно заданное положение (р*) закрывающего устройства (4), исправленное на значение (z) компенсации помеховых величин заданное положение для закрывающего устройства (4), фактическое положение (р) закрывающего устройства (4) или исправленное на значение (z) компенсации помеховых величин фактическое положение закрывающего устройства (4),компенсатор (20) помеховых величин определяет на основании введенных в него значений (hG, р*, р) значение (z) компенсации помеховых величин,в закрывающее устройство (4) подают исправленное на значение (z) компенсации помеховых величин заданное положение,компенсатор (20) помеховых величин содержит модель (21) кристаллизатора (1) непрерывного литья, с помощью которого компенсатор (20) помеховых величин на основании входного значения (i) модели определяет ожидаемое значение (hE) уровня (9) расплава,компенсатор (20) помеховых величин содержит несколько компенсаторов (23) кол |
