发明名称 |
一种纳米多层涂层及其制备方法 |
摘要 |
一种纳米多层涂层,其特征在于该涂层至少包括沉积层,该沉积层由所包含的TiAlSiN亚层和CrAlN亚层交替沉积形成,并且,所述的TiAlSiN亚层中Si的原子含量为2~12%,所述的CrAlN亚层含有B1结构的纳米晶CrAlN显微组织。本发明还公开了该纳米多层涂层的制备方法。与现有技术相比,本发明得到纳米多层涂层具有高硬度、高韧性、高热稳定性和高抗氧化性的优点。 |
申请公布号 |
CN103215542A |
申请公布日期 |
2013.07.24 |
申请号 |
CN201310129525.0 |
申请日期 |
2013.04.15 |
申请人 |
中国兵器科学研究院宁波分院 |
发明人 |
洪春福;刘智勇;杨润田;钱坤明 |
分类号 |
C23C14/06(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/06(2006.01)I |
代理机构 |
宁波诚源专利事务所有限公司 33102 |
代理人 |
袁忠卫;景丰强 |
主权项 |
一种纳米多层涂层,其特征在于该涂层至少包括沉积层,该沉积层由所包含的TiAlSiN亚层和CrAlN亚层交替沉积形成,并且,所述的TiAlSiN亚层中Si的原子含量为2~12%,所述的CrAlN亚层含有B1结构的纳米晶CrAlN显微组织。 |
地址 |
315103 浙江省宁波市高新区凌云路199号 |