在基片两侧同时沉积膜的方法和设备

摘要

一种在基片(2)的两侧同时沉积膜的方法，它包含把基片(2)引入反应室(106、206)中，或者使所述基片移动通过反应室(106、206)，在所述室中放置至少两个电极(110、210)。在所述两个电极(110、210)之间放置至少一个电介质挡板(14、114)。与包含所述至少两个电极的电路并联地在变压器的次级电路中放置可调电感器(L)。产生高频电压，所述电压可在所述至少两个电极(110、210)之间的基片的两侧产生丝状等离子体(112、212)。

主权项

1.一种在无机基片的两侧同时进行沉积的方法，其特征在于它包括下述操作：-把无机基片引入反应室(106、206)中，或者使无机基片移动通过反应室(106、206)，在所述反应室中，至少两个电极(110、210)被放置在所述基片的每一侧上，至少一个电介质挡板(14、114)被放置在所述基片的至少一侧和所述至少两个电极(110、210)之间；-采用稳定的电源，所述电源包括高频变压器，所述至少两个电极连接到所述高频变压器的次级的端子；-在所述变压器的次级电路中产生稳定的高频电压，所述电压在所述至少两个电极(110、210)之间的所述基片的每一侧上产生丝状等离子体(112、212)；-采用可调电感器(L)来减小在所述变压器的次级中产生的电压和电流之间的相移，所述可调电感器与所述高频变压器的次级的端子连接、与包含所述至少两个电极的电路并联；-在所述基片的每一侧上，把混合物(108、208)引入所述反应室(106，206)中，所述混合物的成分使得当与所述等离子体接触时，所述混合物分解并产生能够作为膜沉积到所述基片的对应侧上的物质；-在所述方法开始时或者在所述方法期间，调整由所述稳定的电源提供的电压和频率，以具有稳定并且最佳补偿的电压/电流曲线-调整所述电感器(L)的电感以便促进谐波的产生，所述谐波延长电流在所述电极之间流动的时间；和-使所述基片在所述反应室中保留足以在所述基片的每一侧上获得期望厚度的膜的一段时间。