发明名称 |
使用极UV射线且具有包括吸气材料的挥发性有机化合物吸收构件的光刻设备 |
摘要 |
公开了一种光刻设备(10),该光刻设备使用极UV射线且具有布置在所述设备的处理腔(13)中的包括吸气材料的烃吸收构件。 |
申请公布号 |
CN101971098B |
申请公布日期 |
2013.07.10 |
申请号 |
CN200980103842.7 |
申请日期 |
2009.02.10 |
申请人 |
工程吸气公司 |
发明人 |
P·玛尼尼;A·孔特 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
钱亚卓 |
主权项 |
一种使用极紫外射线的光刻设备(10),所述光刻设备具有包括支承件的真空处理腔,其特征在于:所述光刻设备具有挥发性有机化合物吸收构件(21;31;41),所述有机化合物吸收构件包括布置在处理腔(13)中或布置在通过适当开口与所述处理腔连接的适当空间中的吸气材料,其中所述吸收构件接近所述处理腔中的支承件;并且其中所述有机化合物吸收构件是具有中空容器状的吸气泵(31),所述吸气泵被布置在所述处理腔中、与紫外射线同轴且接近将通过射线被敏感化的聚合膜。 |
地址 |
意大利米兰 |