发明名称 |
金属银有序多孔阵列膜的制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种金属银有序多孔阵列膜的制备方法。它先将聚苯乙烯球溶液涂敷至基片上,再对其使用等离子体刻蚀,得到其上置有松散状有序排列的聚苯乙烯球模板的基片,接着,先将硝酸银、氢氟酸和水混合后得到成核溶液,再将其上置有松散状有序排列的聚苯乙烯球模板的基片置于成核溶液中水平静置沉积,得到基片上的聚苯乙烯球之间生长有银籽晶核,随后,先依次向硝酸银水溶液中加入氨水、冰醋酸、水合肼和水,得生长溶液,再将其上置有的聚苯乙烯球之间生长有银籽晶核的基片置于生长溶液中水平静置沉积,得中间产物,之后,将中间产物置于溶剂中溶去聚苯乙烯球,制得金属银有序多孔阵列膜。它具有低成本、工艺简单、制得的目标产物品质高的特点。 |
申请公布号 |
CN103194740A |
申请公布日期 |
2013.07.10 |
申请号 |
CN201210014106.8 |
申请日期 |
2012.01.10 |
申请人 |
中国科学院合肥物质科学研究院 |
发明人 |
叶长辉;吴摞 |
分类号 |
C23C18/16(2006.01)I;C23C18/44(2006.01)I |
主分类号 |
C23C18/16(2006.01)I |
代理机构 |
合肥和瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 34118 |
代理人 |
任岗生;王挺 |
主权项 |
一种金属银有序多孔阵列膜的制备方法,包括模板法,其特征在于完成步骤如下:步骤1,先将浓度为2.3~2.7wt%的球直径为500~2000nm的聚苯乙烯球溶液涂敷至基片上,再将其上置有聚苯乙烯球的基片置于等离子体清洗机中使用等离子体刻蚀至少3min,得到其上置有松散状有序排列的聚苯乙烯球模板的基片;步骤2,先将硝酸银、浓度为38~42wt%的氢氟酸和水按照重量比为0.83~0.87∶5∶992.15~996.15的比例混合后搅拌均匀,得到成核溶液,再将其上置有松散状有序排列的聚苯乙烯球模板的基片置于25~29℃下的成核溶液中水平静置沉积至少80s,得到基片上的聚苯乙烯球之间生长有银籽晶核;步骤3,先按照重量比为0.49~0.53∶100的比例将硝酸银溶入水中,得到硝酸银水溶液,再依次向硝酸银水溶液中加入浓度为25~29wt%的氨水、冰醋酸、浓度为78~82wt%的水合肼和水,得到生长溶液,其中,生长溶液中的硝酸银、氨水、冰醋酸、水合肼和水之间的重量比为0.49~0.53∶152.1~152.5∶33.4~33.8∶6.23~6.27∶716.30~716.34;步骤4,先将其上置有的聚苯乙烯球之间生长有银籽晶核的基片置于25~29℃下的生长溶液中水平静置沉积至少4.5min,得到中间产物,再将中间产物置于溶剂中溶去聚苯乙烯球,制得厚度为150~250nm、孔直径为100~1800nm、孔周期为500~2000nm的金属银有序多孔阵列膜。 |
地址 |
230031 安徽省合肥市1110信箱 |