发明名称 曝光装置
摘要 [课题]对于基板之纵方向与横方向,在平行平板的厚度、曲率、间隔之任何一种都不改变状态下,能以任意倍率来纵横变更倍率。;[解决手段]来自光照射部1的光,介由遮罩2、投影倍率变更机构10、投影透镜3而照射至被载置于工件平台4之基板等之工件5上,遮罩的图案影像被投影于工件5上而被曝光。投影倍率变更机构10系由:弯曲为二次曲面状或圆筒面状之相同厚度、具有相同曲率之2片平行平板10a、10b、及以光轴为旋转轴,使平行平板10a、10b于左右相反方向于相同角度范围内旋转之θ平台11a、11b、θ平台驱动机构12所构成。藉由使2片平行平板10a、10b如前述般旋转,可以在不改变平行平板的厚度、曲率、间隔之其中任一之情况下,对于基板的纵方向与横方向,能以任意的倍率来进行纵横倍率变更。
申请公布号 TWI400576 申请公布日期 2013.07.01
申请号 TW095102105 申请日期 2006.01.19
申请人 牛尾电机股份有限公司 日本 发明人 三宫晓史
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本