化学放大型抗蚀剂组合物和图案形成方法

摘要

一种包含聚合物的化学放大型抗蚀剂组合物，所述聚合物包含具有足够极性以赋予聚合物粘附力的单元和在酸作用下变为碱溶性的酸不稳定单元。所述聚合物包含具有通式(1)的重复单元，其中R¹为H、F、CH₃或CF₃，Rf为H、F、CF₃或CF₂CF₃，A是二价的烃基，R²、R³、R⁴为烷基、烯基、氧代烷基、芳基、芳烷基或芳氧代烷基。包含芳环结构的重复单元的存在量为≥60mol％，而具有通式(1)的重复单元的存在量＜5mol％。

主权项

1.一种线宽为最多45nm的抗蚀图案形成方法，包括在可加工基材上施涂化学放大型抗蚀剂组合物以形成抗蚀薄膜，使抗蚀薄膜曝光于高能射线的图案，并用碱性显影剂显影被曝光的抗蚀薄膜以形成抗蚀图案的步骤，所述化学放大型抗蚀剂组合物包含含有通式(2)的重复单元和通式(3)的重复单元的聚合物：其中s各自独立地为0或1，t各自独立地为0到2的整数，R⁵各自独立地为氢或C₁-C₆烷基，B¹是单键或C₁-C₁₀亚烷基，其可以被醚键间隔，a为0到3的整数，b为1到3的整数，其中u为0或1，v为0到2的整数，R⁵各自独立地为氢或C₁-C₆烷基，B²是单键或C₁-C₁₀亚烷基，其可以被醚键间隔，a为0到3的整数，b为0或1，c为1到3的整数，在c为1情况下，X为酸不稳定基团，在c为2或3情况下，X为氢或酸不稳定基团，至少其中一个X是酸不稳定基团，所述聚合物进一步包含具有通式(1)和通式(4)的重复单元：其中R¹各自独立地为氢、氟、甲基或三氟甲基，Rf各自独立地为氢、氟、三氟甲基或五氟乙基，所有的Rf不能同时为氢，A是二价的C₁-C₁₀烃基，其中之一、一些或所有的氢原子可被氟原子取代，和其中氧在亚甲基上可取代或替代亚甲基，R²、R³和R⁴各自独立地为取代或未取代的直链或支链C₁-C₁₀烷基、烯基或氧代烷基，或是取代或未取代的C₆-C₁₈芳基、芳烷基或芳氧代烷基，或者R²、R³和R⁴中的至少两个与硫原子键合在一起形成环，和其中d是0到4的整数，R⁶各自独立地为氢，任选卤化的C₁-C₆烷基或伯或仲烷氧基，或任选卤化的C₁-C₇烷基羰氧基，其中，包含芳环结构的重复单元的存在量为至少60mol％且具有通式(1)的重复单元的存在量为0.5-小于5mol％，基于聚合物总重复单元计。