发明名称 КОМПОЗИЦИИ ДЛЯ УДАЛЕНИЯ РЕЗИСТА И СПОСОБЫ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ УСТРОЙСТВ
摘要 1. Жидкая композиция, содержащая(A) по меньшей мере, один полярный органический растворитель, выбранный из группы, состоящей из растворителей, проявляющих в присутствии от 0,06 до 4 мас.% растворенного гидроксида тетраметиламмония (В), массовая доля которого взята, исходя из полного веса соответствующего тестируемого раствора (АВ), постоянную интенсивность удаления при 50°С для полимерного барьерного просветляющего слоя толщиной 30 нм, содержащего хромофорные группы, поглощающие дальнее УФ-излучение,(B) по меньшей мере, один гидроксид четвертичного аммония, и(C) по меньшей мере, один ароматический амин, содержащий, по меньшей мере, одну первичную аминогруппу.2. Жидкая композиция по п.1, характеризующаяся тем, что не содержит N-алкилпирролидоны и гидроксиламин и производные гидроксиламина.3. Жидкая композиция по п.1, характеризующаяся тем, что ароматический амин (С) содержит одну первичную аминогруппу в качестве единственной функциональной группы.4. Жидкая композиция по п.3, характеризующаяся тем, что ароматическим амином является анилин.5. Жидкая композиция по п.1, характеризующаяся тем, что демонстрирует динамическую сдвиговую вязкость при 50°С, измеренную методом ротационной вискозиметрии, от 1 до 10 мПа·с.6. Жидкая композиция по п.1, характеризующаяся тем, что, по меньшей мере, два растворителя (А) выбираются так, чтобы барьерный просветляющий слой удалялся в течение 90 с.7. Жидкая композиция по п.1, характеризующаяся тем, что растворители (А) имеют точку кипения выше 100°С.8. Жидкая композиция по п.7, характеризующаяся тем, что растворители (А) имеют точку вспышки, измеренную в закрытом тигле, выше 50°С.9. Жидкая композиция по п.1, хара
申请公布号 RU2011149551(A) 申请公布日期 2013.06.20
申请号 RU20110149551 申请日期 2010.04.20
申请人 БАСФ СЕ 发明人 КЛИПП Андреас
分类号 G03F7/42 主分类号 G03F7/42
代理机构 代理人
主权项
地址