发明名称 |
包括多波长干涉计的测量装置 |
摘要 |
本公开涉及包括多波长干涉计的测量装置。一种用于测量待检查表面的位置或形状的测量装置包括多波长干涉计和控制单元。多波长干涉计包含导致进入待检查表面并被待检查表面反射的待检查光和参照光相互干涉的光学系统、将待检查光和参照光之间的干涉光分割成各波长的分光单元、为检测干涉光并且被设置用于各分割的干涉光的检测器、和可调整将来自分光单元的光引向检测器的光导部分的位置的光学部件。控制单元通过使用与待检查表面的倾斜有关的信息来控制光学部件以调整光导部分的位置。 |
申请公布号 |
CN103162621A |
申请公布日期 |
2013.06.19 |
申请号 |
CN201210543710.X |
申请日期 |
2012.12.14 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
畑田晃宏;藏本福之 |
分类号 |
G01B11/00(2006.01)I;G01B11/24(2006.01)I |
主分类号 |
G01B11/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
曹瑾 |
主权项 |
一种用于测量待检查表面的位置或形状的测量装置,该测量装置包括:多波长干涉计,被配置为使用其波长相互不同的多个光束;和控制单元,被配置为通过使用由多波长干涉计检测的干涉光的信号获得待检查表面的位置或形状,其中,多波长干涉计包含:光学系统,被配置为导致参照光和进入待检查表面并被待检查表面反射的待检查光相互干涉,分光单元,被配置为将待检查光和参照光之间的干涉光分割成各波长;检测器,被配置为检测干涉光,并且被提供用于各分割的干涉光;和光学部件,被配置为能够调整将来自分光单元的光引向检测器的光导部分的位置,其中,控制单元通过使用与待检查表面的倾斜有关的信息来控制光学部件以调整光导部分的位置。 |
地址 |
日本东京 |