一种排风装置

摘要

本实用新型涉及硅片湿法清洗领域，尤其涉及一种排风装置。该排风装置包括底腔、兆声波装置盛液槽、兆声波装置盛液槽固定支架、夹层及排风调整单元，所述底腔固定于所述夹层顶部，所述兆声波装置盛液槽通过兆声波装置盛液槽固定支架固定于所述夹层上，夹层将整个工艺腔室的工艺区和电气区分隔开，所述排风调整单元与夹层连接，用于调整工艺腔体内部排风流量、工艺腔体外部排风流量以及电气区的排风流量。这样排风调整单元可通过有效的调整排风量以保证工艺腔室内部流场的均匀性；通过夹层能将工艺腔室的工艺区和电气区完全隔离开来，以防止工艺区的化学液挥发的雾气挥发至电气区对电气部件造成损害。

主权项

一种排风装置，其特征在于：包括底腔（3）、兆声波装置盛液槽（4）、兆声波装置盛液槽固定支架（5）、夹层（1）及排风调整单元（7），所述底腔（3）固定于所述夹层（1）顶部，所述兆声波装置盛液槽（4）通过兆声波装置盛液槽固定支架（5）固定于所述夹层（1）上，所述夹层（1）将整个工艺腔室的工艺区和电气区分隔开，所述排风调整单元（7）与所述夹层（1）连接，用于调整工艺腔体内部排风流量、工艺腔体外部排风流量以及电气区的排风流量。