发明名称 |
一种等离子激元增益波导 |
摘要 |
本发明涉及光波导技术领域。本发明提供一种等离子激元增益波导,包括基底层、介质层、隔离层和增益波导,所述介质层置于基底层的裸露表面,所述隔离层介于所述介质层和所述增益波导之间,所述增益波导靠近所述介质层的一端为楔形且尖端朝向所述介质层,所述增益波导的折射率大于所述隔离层的折射率。本发明优点在于,在增益波导靠近介质层一端为楔形结构,固定楔形结构的顶端和金属的距离,保留低折射率的隔离层,可以通过调节楔形顶角的角度改善增益波导和金属的等离子激元耦合。 |
申请公布号 |
CN102662210B |
申请公布日期 |
2013.06.19 |
申请号 |
CN201210061093.X |
申请日期 |
2012.03.09 |
申请人 |
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所;苏州纳维科技有限公司 |
发明人 |
黄增立;王建峰;刘争晖;徐科;杨辉 |
分类号 |
G02B6/122(2006.01)I;G02B6/10(2006.01)I |
主分类号 |
G02B6/122(2006.01)I |
代理机构 |
上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 |
代理人 |
孙佳胤;翟羽 |
主权项 |
一种等离子激元增益波导,包括基底层、介质层、隔离层和增益波导,所述介质层置于基底层的裸露表面,所述隔离层介于所述介质层和所述增益波导之间,其特征在于,所述增益波导靠近所述介质层的一端为楔形且尖端朝向所述介质层,所述增益波导的折射率大于所述隔离层的折射率,所述增益波导的楔形端的尖端和所述介质层间的距离与波导中传播的电磁波波长的比值范围为0.01至0.1,所述增益波导的楔形端的尖端的角度范围为10º至180º,并且所述增益波导的楔形端的楔形高度与波导中传播的电磁波波长的比值范围为0.05至1。 |
地址 |
215125 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号 |