线性蒸发源装置

摘要

本实用新型涉及一种薄膜真空蒸镀装置，具体涉及一种线性蒸发源装置。该线性蒸发源装置包括加热层、材料腔室和线性槽，所述加热层设置于材料腔室的外部，所述线性槽设置于材料腔室的顶部并平行于材料腔室长度方向，所述线性槽是一体结构并具有本体和两个端部，所述材料腔室通过线性槽与腔室外部环境连通，所述端部的宽度比线性槽本体的宽度宽。本实用新型通过改进蒸发源结构，适当增加基板边缘处的材料沉积量，改善现有技术中“中间厚边缘薄”的现象，降低线性槽蒸发出的材料气体在线性槽槽口上的凝结对镀膜均匀性的影响，有效提高基板中间部分和边缘处膜厚均匀性。

主权项

一种线性蒸发源装置，包括加热层、材料腔室和线性槽，所述加热层设置于材料腔室的外部，所述线性槽设置于材料腔室的顶部并平行于材料腔室长度方向，其特征在于，所述线性槽是一体结构并具有本体和两个端部，所述材料腔室通过线性槽与腔室外部环境连通，所述端部的宽度比线性槽本体的宽度宽。