发明名称 制备凸版的方法和激光雕刻用印版原版
摘要 本发明提供一种制备凸版的方法,该方法包括至少雕刻在激光雕刻用凸版原版的凸版形成层内并将要使用发射波长为700nm~1300nm激光束的光纤耦合的半导体激光器进行扫描曝光的区域,该凸版原版至少具有设置在支持体上的凸版形成层,该凸版形成层至少含有粘结剂聚合物和光热转换剂。本发明还提供一种可以用在制备凸版的方法中的激光雕刻用凸版原版。
申请公布号 CN101692150B 申请公布日期 2013.06.12
申请号 CN200910009620.0 申请日期 2009.01.23
申请人 富士胶片株式会社 发明人 田代宏;菅崎敦司;山本长生
分类号 G03F1/68(2012.01)I;B41C1/05(2006.01)I 主分类号 G03F1/68(2012.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 于辉
主权项 一种制备凸版的方法,所述方法包括对在激光雕刻用凸版原版的凸版形成层内的区域通过使用发射波长为700nm~1300nm激光束的光纤耦合的半导体激光器进行扫描曝光而雕刻,所述凸版原版包括设置在支持体上的凸版形成层,所述凸版形成层包含粘结剂聚合物和炭黑。
地址 日本东京