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发明名称
基底处理装置
摘要
本发明系关于一种基底处理装置,且更特定言之,系关于一种基底处理装置,其中可安装若干提升杆,使用一诸如一扳手之工具易于调节该等提升杆之高度。本发明之一基底处理装置包括:一腔体;一被提供于该腔体内部或外部之杆板;一用于提升或降低该杆板之驱动构件;以及穿过该杆板以使其被耦合至该杆板之至少一提升杆,且该提升杆具有一在其一底端形成之工具插入凹槽。
申请公布号
TWI398922
申请公布日期
2013.06.11
申请号
TW096112788
申请日期
2007.04.12
申请人
爱德牌工程有限公司 南韩
发明人
全宗镇
分类号
H01L21/3065;C23C16/54
主分类号
H01L21/3065
代理机构
代理人
黄志扬 台北市中山区长安东路1段23号10楼之1
主权项
地址
南韩
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