多功能连续式磁控溅射镀膜装置

摘要

本实用新型公开一种多功能连续式磁控溅射镀膜装置，包括至少一个镀膜室，镀膜室内壁上具有用于磁控溅射镀膜的可交替使用的立式靶和倾斜靶，对应立式靶在镀膜室内设置移动式的立式基材承载架，对应倾斜靶在镀膜室内设置移动式的倾斜式基材承载架。通过在镀膜室的靶位口处设置可交替使用的立式靶和倾斜靶，并对应设置立式基材承载架和倾斜式基材承载架，使得镀膜基材在不同要求时可以选用不同的靶材进行镀膜，并且立式靶和倾斜靶的可交替使用，还可以使得镀膜室能适应更多规格的产品镀膜，提高镀膜装置的通用性。

主权项

一种多功能连续式磁控溅射镀膜装置，包括至少一个镀膜室，其特征在于，所述镀膜室内壁上具有用于磁控溅射镀膜的可交替使用的立式靶和倾斜靶，对应所述立式靶在所述镀膜室内设置移动式的立式基材承载架，对应所述倾斜靶在所述镀膜室内设置移动式的倾斜式基材承载架。