发明名称 | 基于快闪存储器结构的光敏可控器件 | ||
摘要 | 基于快闪存储器结构NMOSFET光敏可控器件,包括p型半导体衬底,衬底上设有n型重掺杂的源区和漏区,衬底上依次为隧穿氧化层、电荷存储层、阻挡氧化层和控制栅极,组成快闪存储器结构的NMOSFET光敏可控器件,阻挡氧化层和控制栅极为透明电极。隧穿氧化层厚度约为7nm至10nm,电荷存储层为多晶硅材料,其厚度约为100nm,阻挡氧化层为二氧化硅/氮化硅/二氧化硅三层结构,其厚度分别约为4nm/10nm/5nm,控制栅为多晶硅材料,厚度约为200nm,栅极长度约为0.16微米,宽度约为0.18微米。工作在电信号增大模式下时,首先对光敏器件进行擦除操作,使擦除后光敏器件阈值电压小于其初始阈值,也可工作在电信号减小模式。 | ||
申请公布号 | CN103137775A | 申请公布日期 | 2013.06.05 |
申请号 | CN201110397660.4 | 申请日期 | 2011.12.03 |
申请人 | 南京大学 | 发明人 | 闫锋;吴福伟 |
分类号 | H01L31/112(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/112(2006.01)I |
代理机构 | 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 | 代理人 | 陈建和 |
主权项 | 基于快闪存储器结构NMOSFET光敏可控器件,其特征是包括p型半导体衬底101,衬底上设有n型重掺杂的源区102和漏区103,衬底上依次为隧穿氧化层104、电荷存储层105、阻挡氧化层106和控制栅极107,组成快闪存储器结构的NMOSFET光敏可控器件,阻挡氧化层106和控制栅极107为透明电极。 | ||
地址 | 210093 江苏省南京市鼓楼区汉口路22号 |